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CVD化学气相沉积专用气体发生器——Peak氢气发生器
24/10/18
化学气相沉积法CVD（Chemical Vapor Deposition）是近年发展起来的制备无机材料的新技术。CVD是利用气态或蒸汽状态的物质在固体表面上进行化学反应，从而形成所需要的固态薄膜或涂层的过程。其中，用氢气还原卤化物来制备各种金属或多晶硅薄膜是最为常用的化学反应，此还原反应的方法应用范围广泛，可制备单晶、多晶以及非晶薄膜，另外也容易掺杂。
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